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    XAD全自動光譜分析儀

    ? ? XAD系列熒光光譜儀是一款全元素上照式光譜儀,可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚,也可滿足微區RoHS檢測及多元素成分分析,先進的算法及解譜技術解決了諸多業界難題。? ? 性能優勢:? ? 1.?微小樣品檢測:最小測量面積0.0085mm2? ? 2.?變焦裝置算法:可改變測量距離

    • 測量面積:最小0.008mm2
    • 鍍層分析:23層鍍層24種元素
    • 儀器特點:RoHS鹵素有害元素檢測
    • 儀器優勢:全元素自動分析
    • 聯系方式:400-850-1617
    • 服務宗旨:專注研發,專業生產,專精服務

    20200911首頁圖3.jpg

    儀器簡介:

    XAD是一款上照式全元素光譜分析儀,可測量納米級厚度、微小樣品和凹槽異形件的膜厚,也可滿足微區RoHS檢測及多元素成分分析,先進的算法及解譜技術解決了諸多業界難題。

    被廣泛用于各類產品的質量管控、來料檢驗和對生產工藝控制的測量使用。 


    產品優勢:

    XAD儀器優勢.png


    技術參數:

    1. 成分分析范圍:鋁(Al)- 鈾(U)

    2. 成分最低檢出限:1ppm

    3. 涂鍍層分析范圍:鋰(Li)- 鈾(U)

    4. 涂鍍層最低檢出限:0.005μm

    5. 最小測量直徑□0.1*0.3mm(最小測量面積0.03mm2)

        標配:最小測量直徑0.3mm(最小測量面積0.07mm2)

    6. 對焦距離:0-30mm

    7. 樣品腔尺寸:530mm*570mm*150mm

    8. 儀器尺寸:550mm*760mm*635mm

    9. 儀器重量:100KG

    10. XY軸工作臺移動范圍:100mm*150mm

    11. XY軸工作臺最大承重:15KG


    應用領域:

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    多元迭代EFP核心算法(專利號:2017SR567637)

    專業的研發團隊在Alpha和Fp法的基礎上,計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應、散射背景等多元優化迭代開發出EFP核心算法,結合先進的光路轉換技術、變焦結構設計及穩定的多道脈沖分析采集系統,只需要少量的標樣來校正儀器因子,可測試重復鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。

    單涂鍍層應用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

    多涂鍍層應用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

    合金鍍層應用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

    合金成分應用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計算鎳磷鍍層厚度的同時,還可精準分析出鎳磷含量比例。

    重復鍍層應用:不同層有相同元素,也可精準測量和分析。

    如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。

    有害元素檢測:RoHS檢測,可滿足鉛(Pb)、汞(Hg)、鎘(Cd)、六價鉻(Cr VI)等有害元素的成分檢測及含量分析


    選擇一六儀器的四大理由:

    1.一機多用,無損檢測(涂鍍層檢測-環保RoHS-成分分析)

    2.最小測量面積0.002mm2

    3.可檢測凹槽0-90mm的異形件

    4.輕元素,重復鍍層,同種元素不同層亦可檢測


    配置清單:

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